★他社の技術開発の実態を把握し、勝ち抜くためのエッセンス

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〔注目技術別動向予測シリーズ〕

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特許情報分析(パテントマップ)から見た

EUV(極端紫外線)光源

技術開発実態分析調査報告書


定価 ¥ 45,900(税込)
販売価格 ¥ 45,900(税込)
商品番号:183132
ISBN: 978-4-86685-058-0


定価 ¥ 45,900(税込)
販売価格 ¥ 45,900(税込)
商品番号:183132C
ISBN: 978-4-86685-066-5

■CD-ROM版の収録内容
書籍(PDF)とパテントマップViewer(閲覧ソフト)
及びパテントマップチャート(パテントマップEXZデータ)
が収録されています。
セット購入がお得です。


定価 ¥ 75,900(税込)
販売価格 ¥ 75,900(税込)


下記から目次項目単位を選択し、購入目次を設定願います。

■発行所:パテントテック社

■編集者:インパテック株式会社
■資料体裁:A4判、222頁、簡易製本
■発刊日:2018年11月12日

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■本誌の特徴等
1.調査目的
 「EUV(極端紫外線)光源」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、
 (1)「EUV(極端紫外線)光源」についてどのような技術の公開があるか、
 (2)各企業の技術開発はどのように推移しているか、
 (3)最近10年余における関連技術の出現・消失状況はどのようになっているか、
 (4)各企業間の連携状況はどのようになっているか、
 (5)直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、
 (6)この分野に強い弁理士(特許事務所)と企業の利用状況はどうか、
等を明確にして、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2.特許情報の収集方法
 本調査報告書は、「EUV(極端紫外線)光源」に関する過去10年余(国内公開日:2008年1月1日~2018年7月31日)に及ぶ公開特許について、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。
特許情報公報の総数は 9,034件 である。

3.報告書の構成
 本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。
1.パテントマップ編
 A.2016年8月~2018年7月に新規出現した出願人、分類による動向分析
 B.全般分析
 C.上位20出願人比較分析
 D.上位5出願人個別分析
 E.特定4出願人比較分析(1位カール・ツァイス・エスエムティー、2位ギガフォトン、3位エーエスエムエルネザーランズ、4位富士フイルム)
 F.上位20特許分類分析
 G.特定特許分類分析
   G-1.特定特許分類分析(1)
    ・FI分類(深さ18)
    ・Fターム分類(深さ10)
   G-2.特定特許分類分析(2)
    ・Fターム分類(深さ8)
 H.キーワード
   ※キーワード(発明の名称、要約、請求の範囲、産業上の利用分野、発明の効果、課題手段から抽出)においては、
   下記1グループの観点から分析を行った。
   ・目的・効果系(低コスト、高変換効率、小型化、最適化など8個)
 
 I. 弁理士(特許事務所)の動向分析

2.パテントチャート編

3.総括コメント

4. 本報告書の特徴
● 「EUV(極端紫外線)光源」に関する最近10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる。
● 本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる。
● パテントマップで視覚的に理解しやすい。



はじめに

1.パテントマップ編

A.2016年8月~2018年7月に新規出現した出願人、分類による動向分析
  直近2年における
   ・公開件数ランキング(出願人、FI、Fターム別)
   ・公開件数伸長率
  など4マップを掲載。

B.全般分析
  「テーマ」の全体動向について
   ・件数推移、出願人数推移、新規発明者数推移、各新規技術分類数推移のマップ
   ・出願人、発明者、各技術分類ごとの公開件数ランキングマップ
   ・出願人、発明者、各技術分類ごとの出現・消失状況マップや伸長率分析マップ
   などの23マップを掲載。

C.上位20出願人比較分析
  上位20出願人を比較分析するための
   ・件数、共同出願人数、新規発明者数の累計推移を比較するマップ
   ・上位20出願人と技術分類上位20の相関マップ
   ・審査権利状況
   ・保有している発明者数と技術分類数による出願人分布
  など10マップを掲載。

D.上位5出願人個別分析
  上位5出願人をそれぞれ個別に分析を行うための
   ・各社個別の技術分類上位20による公開件数推移マップ
   ・各社個別の技術分類上位20、キーワード上位20による出現・消失状況マップ
   ・各社個別の独自技術分類、独自キーワードを分析するマップ
   ・各社の共同出願人
  など37マップを掲載。

E.特定4出願人比較分析特定4出願人比較分析(1位カール・ツァイス・エスエムティー、2位ギガフォトン、3位エーエスエムエルネザーランズ、4位富士フイルム)
  特定4出願人を比較分析するための
   ・各出願人の技術分類の公開件数、公開件数推移の比較マップ
   ・各出願人の公開件数の出現・消失状況、伸びの変遷を分析するマップ
   ・各出願人と技術分類との相関マップ
  など13マップを掲載。

F.上位20特許分類分析
  上位20FIサブグループ、上位20Fタームを分析するための
   ・前期間、後期間による技術分類の公開件数比較マップ
   ・技術分類別の出願人数、発明者数比較マップ
  など10マップを掲載。

G.特定特許分類分析
  G-1では、FI、Fタームを指定し、その分類における
   ・件数推移、新規出願人数推移、新規発明者数推移を分析するマップ
  など12マップを掲載。
  G-2では、Fタームを指定し、その分類における
   ・出願人別の公開件数マップ、伸長率分析マップ、推移マップ
   ・指定Fターム同士の件数の相関マップ、指定Fターム同士の出願人数の相関マップ
  など15マップを掲載。

H.キーワード分析
   ・キーワードの出現・消失状況を分析するマップ
   ・キーワードの伸長率を分析するマップ
   ・目的・効果系キーワードの出願人数、新規発明者数、公開件数の伸びと構成率を分析するマップ
  の5マップを記載。

I.弁理士(特許事務所)の動向分析
   ・弁理士別の公開件数、公開件数推移マップ
   ・上位40弁理士と上位20FIメイングループの相関マップ
  など3マップを掲載。

2.パテントチャート編

  パテントチャートでは、特定2出願人を指定し、出願人における
   ・公報図等を含む時系列チャート、Fターム分類と発明者のマトリクスチャート分析
   ・特定Fターム分類の技術分類マトリクスチャート
   ・注目特許のサイテーションマップ
  など6マップを掲載。

3. 総括コメント
参考資料
【資料3】出願人統合リスト
【資料4】上位5出願人の発明者リスト
【資料5】パテントマップ・パテントチャートの種別と見方

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